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贵金属靶材蒸发料加工
简要描述：溅射仪专用靶材，贵金属靶材蒸发料加工，材料为黄金，纯度高达99.999%，为获得高品质金膜奠定了基础。
溅射仪专用金靶，贵金属靶材蒸发料加工，材料为黄金，纯度高达99.999%，为获得高品质金膜奠定了基础。我们还提供铂靶和银靶的现货产品，其中铂靶尺寸为直径50*0.1mm，纯度99.99%，银靶尺寸为直径50*0.5mm，纯度99.99%。也可以根据客户的需要定制加工各种有色金属的蒸发料及靶材。
金靶在溅射仪（贵金属靶材蒸发料加工）中主要有两个应用：
第一、扫描电子显微镜的样品前处理。用扫描电镜观察不导电样品时，入射电子束打到样品上，会在样品表面产生电荷的积累，形成充电和放电效应，影响对图象的观察和拍照记录。因此在观察之前要进行导电处理，使样品表面导电。常见的方法就是使用离子溅射仪对样品进行喷金处理。
第二、制作电极。通过溅射仪制作一些电极，包括金电极、银电极和铂电极。尤其是利用磁控溅射低温的特点，在薄膜上制作电极以及镀覆金膜。
微电子领域：磁控溅射技术可用于制备半导体材料、金属线路、金属氧化物半导体场效应晶体管（MOSFET）、电容器等微电子器件。其中，磁控溅射法制备的金属线路具有高导电性和良好的附着力，可以用于微电子器件的制备。
光学领域：磁控溅射技术可用于制备光学薄膜，如反射镜、透镜、滤光片等。其中，磁控溅射法制备的反射镜具有高反射率、耐腐蚀性和长寿命等优点，广泛应用于光学镜头、激光器等领域。
磁性材料领域：磁控溅射技术可用于制备磁性材料薄膜，如铁磁性材料、反铁磁性材料、软磁性材料等。其中，磁控溅射法制备的铁磁性薄膜具有高饱和磁化强度、高矫顽力等优点，可以用于制备磁头、磁盘等磁存储器件。
纳米材料领域：磁控溅射技术可用于制备纳米材料薄膜，如纳米晶体、纳米管等。其中，磁控溅射法制备的纳米晶体具有尺寸均匀、晶格结构良好、性能优异等优点，可以用于纳米电子器件、纳米传感器等领域。
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https://www.chem17.com/st538609/erlist_2391255.html
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